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磁力搅拌器用于氟硅烷涂层的自清洁性分析

返回列表 来源:未知 发布日期:2021-06-08 09:09【

    对于超疏水自清洁或超亲水自清洁的研 究颇多,而对于既具有超疏水性又具有超亲水性的 材料研究鲜少。WANG 发现纳米 TiO2薄膜在无 紫外光照射下水接触角为几十度,经紫外光照射一段时间后接触角下降至接近 0°,由疏水转变为超 亲水。利用纳米TiO2在紫外线条件下由疏水转 变为亲水的特性,制备了超疏水和超亲水相结合的纳 米TiO2涂层,并研究各因素对自清洁性能的影响。上海中晨数字技术设备有限公司接触角测量 仪,上海嘉鹏科技有限公司 ZF 型紫外透射反射分 析仪,巩义市予华仪器有限责任公司 82-5 型磁力 搅拌器,天津市泰斯特仪器有限公司 101-1A 型电 热鼓风干燥箱。

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    涂层的接 触角下降程度相似,而氟硅烷质量分数为 0.25%的 涂层接触角下降率较大,所以在一定范围内氟硅烷 含量越小,其自清洁性越好;在相同时间内,254 nm 紫外波长照射下的水接触角比 365 nm 波长下的水 接触角变化大。因此,在 254 nm 紫外波长照射条 件下,氟硅烷质量分数为0.25%的纳米TiO2/氟硅烷 涂层的自清洁性较好。制备了不同含量氟硅烷的纳米 TiO2/氟硅烷 涂层在紫外光照射下都能由超疏水转变为超亲水, 在一定范围内氟硅烷含量越小,其自清洁性越好, 此纳米TiO2/氟硅烷涂层具有优良的自清洁性能。经正交试验极差计算分析得出,在 254 nm 紫外波长光照下,对自清洁性影响程度为紫外光照 时间>基材>纳米 TiO2含量;在 365 nm 紫外波长条 件下对自清洁性影响程度为基材>紫外光照时间> 纳米TiO2含量。